真（zhēn）空狀態定義
在真空科學中，真空的含義是指（zhǐ）在給（gěi）定的（de）空間（jiān）內（nèi）低於一個大氣壓力的氣體狀態。人們通常把這種稀薄的氣體狀態稱為真空狀況。這種特（tè）定的真空狀態（tài）與人類賴以生（shēng）存的大氣在狀態相比（bǐ）較，主要有如下幾個基本特點：
（1）真空狀態下的氣體壓力低於一個大（dà）氣壓，因此，處於（yú）地球表麵上（shàng）的各種真空容器中，必將受到大氣壓力的作用，其壓強差的大小由容器內外（wài）的壓差值而定。由於作用（yòng）在地球表麵上的一個大氣壓（yā）約為101325N/m2，因（yīn）此當容器內壓（yā）力很小時，則容器所承受的大氣壓力可達（dá）到一個（gè）大氣壓。
（2）真空（kōng）狀態下由於氣體（tǐ）稀薄，單位體積內的氣體（tǐ）分子數，即氣（qì）體的（de）分子密度小於大氣壓力的氣體分子密度。因此，分子之間、分子與其（qí）他質點（如電子、離子（zǐ）等）之（zhī）間以及分子與各種表麵（如器壁（bì））之（zhī）間相互碰撞次數相對減少，使氣體的分（fèn）子自由程變大。
工業真空概述：
工業上的真空（kōng）指的是（shì）氣壓比（bǐ）一標準大氣壓小的氣體空間，是指稀薄的氣體狀態，又可分為（wéi）高真空、中真空和（hé）低真空，地球以及星球（qiú）中（zhōng）間的廣大（dà）太空就是真（zhēn）空。普通是用特製的抽氣機（jī）得到真空的（de）。它的氣體稀薄程度用真空（kōng）計測定，現在已能（néng）用分子（zǐ）抽氣機和擴散抽（chōu）氣機得到（dào）0.0000000001大氣壓的高真空。真（zhēn）空在科學技術，電真空儀器，電子管和（hé）其他電子儀器方麵，都有很大用途。
真空閥檢漏技術（shù）：
一個理想的真空係統（tǒng）或者真空容器，應當是不存在任何漏孔，更不會產生任何漏氣（qì）現象的（de）。但是，就任何（hé）真空係（xì）統或真空閥來說，不漏的（de）現象是不可能的（de）。特殊是在壓力低的情況下，隨著漏氣現象的影響不斷加劇，真空度達不到預定的工（gōng）藝要求，是一個相（xiàng）稱普遍的問題。因此，在檢測真空（kōng）閥或真空係統（tǒng）存在的漏氣部位、確定漏（lòu）孔的大小、阻塞漏孔從（cóng）而消除漏氣（qì）現象，就成為真空技術工作者的一項重要工作。
所謂漏氣或稱實漏，它是指氣體（tǐ）通過真空係統上的漏孔或間隙，從高壓側流（liú）向低壓側的一種現象。真空閥檢（jiǎn）漏技術中的一些（xiē）常用基（jī）本概念有九點。
其（qí）一稱為虛漏，它是（shì）相（xiàng）對於實漏而言的一種物理現象。這種現（xiàn）象大都是由於材料的放氣（qì）、解吸、凝解氣體的再蒸（zhēng）發或真（zhēn）空係統內存在死空間中氣體的流出等（děng）原因而引起真空係統或真空閥中（zhōng）壓力升高檢漏（lòu）的一種現象。真空閥檢漏的時候需（xū）要排除虛漏的影響（xiǎng）。氣密性表征著（zhe）真空係統（tǒng）或容器的壁對空氣不渴沉頭程度（dù）的一種可能。其三是漏孔（kǒng），所（suǒ）謂的（de）真空閥漏孔是指真空（kōng）容器上存在形狀不定、其弱小的（de）孔洞或間隙。大氣（qì）通（tōng）過這種小孔或間隙進入（rù）真空係統或容器中。第四點是真空漏（lòu）率，即為真空閥漏氣速率，它代表在指定的單位時間（jiān）內通（tōng）過漏孔或間隙流入到真空係統或（huò）容器內的（de）氣體量。其五是采用某（mǒu）種檢漏方法或真空儀器可能檢（jiǎn）測出來的小漏率。還有檢漏敏捷度，或者可稱之為有效敏捷度（dù）。對於它的相應時間來說，從真空閥檢（jiǎn）漏方法開始實施到指示方法或真空（kōng）儀器指示值上升（shēng）到其大（dà）值的時所需要（yào）的時間。而消除時間是指從檢漏方法停止到指示方法或儀器（qì）指（zhǐ）示值（zhí）下降到停止值的所需（xū）時間。後就是由灰塵或液體所造成的漏孔阻塞，這些阻塞常常是（shì）指由於檢漏作業操作不當而導致發（fā）生的一種暫時現象，真空閥檢漏時（shí）好像不漏氣，但一經排氣又會浮現漏氣的一種現象，我們把它稱為漏孔的阻塞現象。